業(yè)內(nèi)人士分析稱，EUV光刻機算得上是有史以來人類所發(fā)明的最精密的儀器，不僅重量高達180噸以上，而且光是核心零部件就超過了10萬個，更是集合了多國的高精尖技術(shù)才研發(fā)出來的。M國曾有位工程師說，他為光刻機調(diào)整一個零件就花費了整整10年的時間。EUV光刻機的難度可想而知。

所以全球光刻機領(lǐng)域的佼佼者ASML才說：“就算把圖紙給你們，你們也不可能造出光刻機”。事實真是如此嗎？其實我國早就制造出了90nm的光刻機，28nm的也取得了關(guān)鍵突破。我們國家要想制造出EUV光刻機，就需要集齊光刻機所需高精尖技術(shù)的全套人才，這個數(shù)字是非常龐大的，所以任正非才說：黃刻機只是工程制造問題，花時間就能解決，中國真正缺的是人才。

其實在華為被斷供前，大家都對ASML和臺積電不了解，現(xiàn)在算是知道了什么才是芯片的制高點，而會設(shè)計芯片只不過是學(xué)會了皮毛而已。所以從華為被打壓后，國內(nèi)廠商都開始明白，想要在經(jīng)濟全球化時代脫穎而出，顯然離不開自主研發(fā)，還有手握核心技術(shù)才能夠走的更遠，才不畏懼別人的“技術(shù)封鎖”。

現(xiàn)在讓ASML意想不到的是，國內(nèi)在光刻機領(lǐng)域真的在發(fā)力了，日前中國電子科技傳出好消息，離子注入機取得了重大突破，實行了100%國產(chǎn)化。雖然28nm工藝制程光刻機還沒達到國際一流水平，但也是一個重要的信號，就是國內(nèi)已經(jīng)在光刻機領(lǐng)域要自主創(chuàng)新，不再依賴進口。

無疑是讓國內(nèi)更多廠商看到了希望，不依靠別人照樣能夠自主研發(fā)，雖然在7nm、5nm工藝制程上與西方還有很大的差距，但是隨著國內(nèi)廠商堅持不懈地投入到自主研發(fā)，而全球的“芯片慌”更是給我們營造了“彎道超車”的好時機。

轉(zhuǎn)載自騰訊網(wǎng)-云舊時光青池