掩膜版因為稱光罩，是光刻過程中必不可少的一個工具，關于掩膜版的清洗方法多樣，掩膜版廠家所提供的的清洗方法是用飽和的NaOH溶液浸泡5min, 用去離子水沖洗，然后用50%濃硫酸泡5min，用去離子水沖洗，氮氣吹干。

當然也有專門的設備，一般先使用掩膜版清洗液，將掩膜版放入掩膜板清洗機邊沖洗邊旋轉，將污染顆粒沖洗干凈。之后高速旋轉甩干。掩膜板清洗機可清洗3寸、4寸、5寸、6寸掩膜。

1.掩膜版RCA清洗方法

2.掩膜版UV+O?清洗方法