掩膜版也被稱作是光刻版，用于光刻過(guò)程中，光刻是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵接部分，也是流程造價(jià)最高的一部分。

比較常見(jiàn)的光掩膜版種類有四種，分別是鉻版、干版，凸版、液體凸版四種，光掩膜版主要的構(gòu)成部分主要是分為兩類，一個(gè)是基板，一個(gè)是不透光材料?；逋ǔ６际怯墒⒉Ａе谱鞫伞?/p>