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正性光刻膠一般在使用過程中都簡稱為正膠,在顯影液中,光刻膠的溶解度是非常高的。行業內普遍認為正性光刻膠具有更好的對比度,生成的圖形也具有更好的分辨率。掩膜版也被稱作是光刻版,上面又一層感光材料,使用過程中需要保持掩膜版的潔凈。
國內金屬掩膜版mask制作廠商有哪些?
傳統光學光刻掩膜版中抗反射層
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