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光刻工藝對掩膜版的質量要求
【2022-09-23】

光刻是芯片設計中的重要技術。它具體是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑將掩膜版上的圖形轉移到基片上的一種技術。那光刻工藝對掩膜版的質量要求：精度高、反差強、耐磨損、套刻準。


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