郵箱地址： sales@si-era.com
聯系電話：153 0156 0529
制版電話：0512-62996316
當前位置：首頁 > 新聞中心 > 行業新聞

2021-07-24

用以制作 掩模版 的掩膜基板必須內部和兩表面都無缺陷。必須于光刻膠的曝光波長下有高的光學透射率。用來制作掩模版的常見材質有石英玻璃，蘇打玻璃等...

2021-07-24

所有的DUV光刻機，用的光源都是193nm波長的ArF excimer laser，之前的一代DUV，用的光源是248nm波長的KrF excimer laser。另外，EUV光刻機的光源，是...
首頁上一頁12末頁
首頁
關于我們
聯系我們
一鍵導航