光刻掩膜版的制作最重要的設(shè)備就是光刻機，光刻機英文名稱Mask Aligner，又名光刻系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)等，它采用激光直寫的方式，在光刻掩膜版上面進行圖形繪制，從而制作出掩膜版。

光刻機是光刻掩膜版制作的核心設(shè)備，也是芯片制作的重要設(shè)備制造和維護都需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)的基礎(chǔ)，目前光刻機還是國外少數(shù)廠家掌握，因此光刻機的價格非常昂貴。