步進式光刻掩膜版的材料是石英，因為石英掩膜版使用在深紫外光刻中使用，石英基材的熱膨脹系數非常小，所以在溫度改變時間也是相對穩定的，而且石英基材在深UV和近深UV區域都有很高的穿透系數，所以步進式掩膜版使用石英材料，也是因為其具有高光學透射性能。

　　步進式光刻版使用過程是需要多次曝光，由于版圖尺寸較大，一般常見為4:1或5:1，所以再硅片能夠行程亞微米級別的尺寸圖形。