本企業通過ISO9001質量管理體系認證
光刻掩模版主要由兩個部分組成,不透光材料與掩模基板。光刻版也被稱作鉻版,就是指在蘇打玻璃或石英玻璃上通過濺射的方式鍍一層鉻層,鉻層就是不透光材料,不同的光刻版,掩模基板材料和不透光材料不同。光刻掩模版是通過光刻制作工藝,將圖案刻制在光掩模基板上,然后制作成光刻掩模版。光刻掩模版的用途主要是圖像復制,通過透光與不透光,進行電路圖形的復制。
步進式光刻掩膜版
制作芯片需要幾塊光刻掩膜版
蘇州硅時代電子科技有限公司
電話: 0512-62996316
手機:153 0156 0529
E-mail:sales@si-era.com
地址:中國(江蘇)自由貿易試驗區蘇州片區——蘇州工業園區金雞湖大道99號納米城西北區09棟404室
【微信咨詢】
版權所有:蘇州硅時代電子科技有限公司 蘇ICP備20007361號-4 蘇公網安備 32059002003737號 技術支持:恩斯特網絡 昆山網站制作