光刻掩膜版，也通常稱為掩膜板，它是我們在微納加工技術中常用的光刻工藝中使用的圖形的母版。

通常對掩膜版的基本求如下：

（1）精度高：圖形尺寸準確，符合設計要求，且不發生畸變。

（2）套刻準：應當保證整套掩模版中的各個次版能依次套住，套準誤差盡量小。

（3）反差強：圖形黑白域之間的反差要高，一般要求在2.5以上。邊緣光滑，無毛刺，過渡區要小（即“黑區”應盡可能陡直地過渡到“透明區”）。

（4）耐磨損：版面平整、光潔、無針孔和劃痕，堅固耐用且不易變形。