光刻掩膜版的壽命有一個(gè)很大的變化范圍，通常介于1000-5000個(gè)曝光晶圓計(jì)數(shù)。

　　在掩膜版的使用過(guò)程中，霧狀缺陷是影響掩膜版壽命的主要因素。隨著光刻波長(zhǎng)的變化，受霧狀缺陷影響的光刻版比例可高達(dá)20%。因此，控制掩膜版使用和保存環(huán)境對(duì)保護(hù)掩膜版壽命有很重要的作用。