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2021-07-28

在制作芯片的過(guò)程中，需要經(jīng)過(guò)很多次光刻，可能十幾次光刻，甚至幾十次光刻，每進(jìn)行一次光刻工藝，就需要一塊 光刻掩膜版 ，掩膜版的質(zhì)量將會(huì)直接影響...

2021-07-24

光掩膜基版 工序是微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，用來(lái)承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的重要載體。 在微納(MEMS)加工過(guò)程中，光掩模版...

2021-07-24

掩模版 制作的材質(zhì)常見有石英玻璃，蘇打玻璃等。 石英玻璃：熱膨脹系數(shù)非常小，在深UV和近深UV區(qū)域都有很高的穿透系數(shù)，但是石英玻璃的價(jià)格也較為昂貴...

2021-07-24

? 光刻掩膜版 的檢驗(yàn)是用傳播光檢查制作缺陷，在以前，這項(xiàng)檢查是使用顯微鏡，人工來(lái)檢驗(yàn)完成的，但如今掩膜版越來(lái)越復(fù)雜，檢驗(yàn)工作也從人工檢查轉(zhuǎn)變...
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