在光刻掩膜版使用的過程中，存在不同的損傷可能性，比如光刻掩膜版的鉻層脫落，鉻層表面有擦傷，灰塵及細(xì)小顆粒，靜電放電等等。

　　避免光刻掩膜版上的灰塵顆粒，一般采用保護(hù)膜，一個(gè)非常薄的透光膜來進(jìn)行光刻掩膜版的表面保護(hù)。保護(hù)膜的厚度需要達(dá)到一定要求，做的非常薄，這樣保證透光性，保護(hù)膜的質(zhì)量也要過關(guān)，需要足夠的解釋，能夠清洗不變形不脫落，性能上還要求保護(hù)膜在長時(shí)間的曝光下能夠不變形。

　　貼膜的光刻掩膜版可以使用去離子水進(jìn)行清洗，這樣可以使膜上的大多數(shù)顆粒被清潔掉。