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2022-10-14

光刻掩膜版的原理，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，就是利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)以及物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，從而形成圖形；它的原理類似...

2022-09-23

光刻是芯片設(shè)計(jì)中的重要技術(shù)。它具體是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的一種技術(shù)。那光刻工藝對(duì) 掩膜版的質(zhì)量要求：精...

2022-09-09

金屬掩膜版是半導(dǎo)體領(lǐng)域必不可少的工具，目前國(guó)內(nèi)主要生產(chǎn)金屬掩膜版的公司有深圳市鴻浚通科技有限公司；南京澄超光電科技有限公司；湖南省鴻宇通光...

2022-08-25

正性光刻膠一般在使用過(guò)程中都簡(jiǎn)稱為正膠，在顯影液中，光刻膠的溶解度是非常高的。行業(yè)內(nèi)普遍認(rèn)為正性光刻膠具有更好的對(duì)比度，生成的圖形也具有更好...