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2022-03-26

　　 光刻掩膜版 的壽命有一個(gè)很大的變化范圍，通常介于1000-5000個(gè)曝光晶圓計(jì)數(shù)。 　　在掩膜版的使用過程中，霧狀缺陷是影響掩膜版壽命的主要因素。...

2022-03-15

　　制作 光刻掩膜版 需要使用相關(guān)軟件制作版圖。 　　制作版圖時(shí)，可以先使用ppt或者其他簡(jiǎn)單的繪圖軟件設(shè)計(jì)pattern，在此基礎(chǔ)上，依據(jù)具體的圖形大...

2022-03-02

掩膜版 的制作首先需要提供掩膜基板，常見的掩膜基板有石英和蘇打兩種材料。 光刻過程則需要根據(jù)實(shí)際圖案選擇合適屬性的光刻膠，以完成曝光、顯影。 ...

2022-01-12

光刻掩膜版 制作大概分為7個(gè)步驟： 步驟一、在提供的掩膜基板上涂覆一層光刻膠； 步驟二、對(duì)步驟一所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，形成光刻膠圖案； 步驟...
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