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2021-12-24

　　集成電路設計包括芯片硬件設計和軟件協同設計兩部分。　　芯片硬件設計包括：　　功能設計→設計描述和行為級驗證→邏輯綜合→門級驗證→布局和...

2021-12-11

光刻工藝掩膜版制造大概分為7個步驟： ① 提供掩膜基板，在基板上涂覆一層光刻膠； ② 對步驟①所述光刻膠進行曝光、顯影，形成光刻膠圖案； ③ 采...

2021-12-03

　　2003年，光刻掩膜版的90nm工藝的主流光刻技術是193nm準分子激光掃描分布投影光刻機（ArF Scanner），全球的光學光刻機巨頭Nikon、ASML和CANON都...

2021-11-26

　　在集成電路制造中，光刻技術是利用光學、化學、物流的一系列反應原理和方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成目標功能圖形的工藝技術。...