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2021-07-24

目前 掩膜版 清洗常用的方法是使用氫氧化鉀溶液進(jìn)行沖洗，然后再在掩膜版光學(xué)檢測(cè)設(shè)備中進(jìn)行檢查，檢查結(jié)果不合適后再次投入氫氧化鉀溶液進(jìn)行二次清洗...

2021-07-24

光刻掩膜版 的制作最重要的設(shè)備就是光刻機(jī)，光刻機(jī)英文名稱(chēng)Mask Aligner，又名光刻系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)等，它采用激光直寫(xiě)的方式，在光刻掩膜版上面進(jìn)行圖...

2021-07-24

目前 光刻掩膜版 的等級(jí)規(guī)格主要以尺寸、精度、以及基板材料為維度進(jìn)行劃分。 光刻掩膜版 常用的的基板材料有石英玻璃和蘇打玻璃，石英玻璃熱膨脹系數(shù)...

2021-07-23

光刻掩膜版 加工最小尺寸？ 光刻版加工尺寸有多種，不同行業(yè)常用尺寸也不同。 IC（集成電路）行業(yè)專(zhuān)用光刻掩膜版，常用石英和蘇打3~14 inch的基材光掩...
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